01. Vacuum system

커스터마이징 진공시스템 제작으로 

다양한 산업군에 적용

장비 최대 진공도 ( 10E-6 mbar ~ )

장비 최대 유효 사이즈 ( ~ 1㎥ )

02. Etching system

고 이온화 소스 제작 노하우를 

적용한 플라즈마 에칭 시스템

제품에 따른 공정 노하우 제공 

(반도체, 이차전지, 의료 등)

Ex) IONGUN, PSE, AEGD, MetalION 등

03. Coating system

Batch Type / In-Lin Type 설비 제작

커스터마이징 및 기술 이전

Ex) CVD System, PVD System 등

04.Plasma system 

별도의 플라즈마 소스 제작 및 

운용 실적 보유

맞춤형 소스 제작 가능, 기

술 협의 및 이전 가능

Ex) Sputter, Arc, FCVA, PACVD, 

      Ion-beam